thinkpool

올 3분기 연결기준 매출액은 465.62억으로 전년동기대비 20.81% 증가. 영업이익은 95.96억으로 67.76% 증가. 당기순이익은 81.83억으로 30.16% 증가. 

연결기준 3분기 누적매출액은 1307.75억으로 전년동기대비 18.98% 증가. 영업이익은 254.78억으로 34.73% 증가. 당기순이익은 236.85억으로 18.21% 증가. 

국내 반도체 부품업체 에스앤에스텍이 High-NA EUV 시대에 대응하기 위해 차세대 하드마스크 개발을 완료했다. 해당 제품은향후 고객사와의 검증을 통해 실제 적용 여부가 결정될 것으로 전망된다.

승병훈 에스앤에스텍 전무는 8월12일 수원 컨벤션센터에서 열린 '차세대 리소그래피 + 패터닝' 학술대회에서 회사의 제품 개발 로드맵에 대해 밝혔다.

하드마스크는 반도체 노광공정에서 회로를 새기는 데 사용되는 블랭크마스크의 보조격 소재다. 반도체는 웨이퍼 위에 PR(감광액)을 도포한 뒤 빛을 쬐고, 이후 필요없는 물질은 깎아내는(식각) 과정을 거친다.

그런데 초미세 공정에서는 PR 두께가 매우 얇아져, 웨이퍼 하부층까지 식각하기가 어렵다. 이 때 하드마스크를 PR 증착 전에 삽입해 웨이퍼를 보호하고 식각 성능을 높인다.

기존 하드마스크 소재로는 크롬, 탄탈, 실리콘 등이 쓰였다. 그러나 High-NA EUV 공정은 감광액(PR)을 EUV(30~60나노미터) 보다 더 얇은 10~20나노미터 수준으로 도포해야 하기 때문에, 새로운 소재 적용이 필요하다.

EUV는 기존 반도체 노광공정 소재인 ArF(불화아르곤) 대비 빛의 파장이 짧아, 초미세 공정 구현에 용이한 광원이다. 현재 7나노미터(nm) 이하 공정에 적용되고 있으며, 주요 기업들은 성능을 더 높인 High-NA EUV 기술을 내년부터 본격 도입할 계획이다.

NA는 렌즈 수차로, 해당 수치를 높일 수록 해상력이 향상된다. 기존 EUV의 렌즈 수차가 0.33인 반면, High-NA EUV는 0.55로 더 높다.

이에 에스앤에스텍은 신물질을 활용한 하드마스크를 개발했다. 기존 식각 공정이 산소(O2)와 염소(Cl2)를 모두 활용해야 했던 것과 달리, 차세대 하드마스크는 Cl2만을 활용할 수 있도록 만든다. 이 경우 PR을 더 얇게 도포할 수 있어 High-NA EUV에도 대응이 가능하다.

승병훈 전무는 "차세대 하드마스크는 식각 선택비가 타 물질 대비 3배가량 높고 PR 두께 감소, 마스크 제조공정 단순화 등 다양한 이점이 있다"며 "현재 개발이 완료돼, 향후 고객사와의 검증을 통해 적용 여부가 결정될 것"이라고 설명했다.

다만 하드마스크만으로는 High-NA EUV에 완벽히 대응할 수 없다. 하드마스크 외에도 필름 스트레스 조절, 노광 공정 성능의 척도인 DoF(초점심도) 마진 개선 등 블랭크마스크의 다른 주요 요소들도 함께 선응이 강화돼야 하기 때문이다.

에스앤에스텍(101490)은 100억원 규모의 자기주식 취득 신탁계약을 삼성증권과 체결했다고 8월8일 공시했다. 계약목적은 주가 안정과 주주가치 제고이며, 계약기간은 내년 2월 8일까지다. 

SK증권은 7월30일 에스앤에스텍에 대해 내년 하반기로 예상했던 극자외선(EUV) 펠리클 및 블랭크마스크 관련 실적이 2026년으로 늦춰질 전망이라며 목표주가를 기존 6만3000원에서 4만5000원으로 하향했다. 투자의견은 매수를 유지했다.

에스앤에스텍은 올해 2분기 매출액이 전년 동기 대비 18.7% 증가한 424억원, 영업이익은 37.5% 상승한 85억원을 기록했다.

이동주 SK증권 연구원은 "중국향 블랭크마스크 수요 호조로 분기 실적 성장세가 이어지고 있다"며 "올해 일부 제품의 가격 인상에도 견조한 물동이 유지되고 있고 제품 믹스 개선까지 더해지면서 2분기 영업이익률은 20%를 시현했다"고 전했다.

이어 "3분기 전방 재고 축적에 따른 일시적인 재고 조정 영향이 있을 수 있겠지만, 실적 감소 폭은 크지 않을 것"이라고 전망했다.

에스앤에스텍의 용인 공장은 최근 준공을 마친 것으로 알려졌다. 용인 공장은 EUV 펠리클 및 블랭크마스크을 위한 전용 생산 시설로 활용될 예정이다.

이 연구원은 "이번 준공은 우선적으로 공간 확보 차원이며, EUV 시장 진입시 긴밀한 대응이 목적"이라며 "클린룸 구축 및 양산 관련 장비 셋업이 필요하지만 향후 로드맵은 아직까지 구체화되진 않았다"고 설명했다.

또 "노광 공정에 해당하는 제품 특성상 테스트 환경의 요구 조건이 높고, 새로운 소재 적용 및 투과율 확보 등 제품의 완성도 기준도 높아지고 있다"며 "이러한 점들을 고려하면 시장의 본격적인 개화 시점은 2026년으로 예상보다 늦어질 것"이라고 판단했다.

그는 에스앤에스텍에 대해 "올해 펀더멘탈은 기존 대비 변함이 없다"면서도 "내년 하반기로 예상했던 본격적인 EUV 실적 반영이 2026년으로 미뤄지면서 실적 추정치를 하향 조정한다"고 말했다.

중국이 레거시(성숙) 반도체에 대한 생산량 확대를 지속 추진하고 있다. 최근 국내 기업으로부터 반도체 제조의 핵심 부품인 '블랭크마스크'를 적극 구입한 것으로 파악됐다. 이에 따라 올 하반기 일부 블랭크마스크 가격이 크게 인상되는 조짐까지 나타나고 있다.

7월23일 업계에 따르면 국내 블랭크마스크 제조기업 에스앤에스텍은 중국 고객사들로부터 올해 11월까지의 DUV 블랭크마스크 물량 구매주문(PO)을 받았다.

블랭크마스크는 반도체 제조의 핵심 공정인 노광공정에 쓰이는 부품이다. 블랭크마스크에 반도체 회로를 새기면 포토마스크가 되는데, 포토마스크에 빛을 투사해 웨이퍼에 회로를 새길 수 있다.

현재 에스앤에스텍은 국내에서 유일하게 DUV(심자외선) 블랭크마스크를 생산하고 있다. DUV는 ArF(불화아르곤)이라는 광원을 활용하는 노광 기술이다. 단일 패터닝으로는 최소 38나노미터(nm) 공정까지, 멀티 패터닝으로는 7nm까지 구현할 수 있다.

중국은 반도체 생산능력 확장에 따라 블랭크마스크에 대한 수요를 꾸준히 늘리는 추세다. 반도체 관련 협회 SEMI에 따르면, 중국의 반도체 생산능력은 올해 15%·내년 14% 성장해 내년 1천10만 장까지 증가할 것으로 전망된다.

특히 중국은 DUV 공정 활용에 초점을 맞추고 있다. DUV보다 진보된 EUV(극자외선) 기술이 TSMC·삼성전자·인텔 등 주요 반도체 기업을 중심으로 보편화되고 있으나, 중국은 해당 기술에 접근하는 것이 사실상 불가능하다. 지난 2019년부터 미국이 전 세계 유일의 EUV 노광장비 업체인 ASML의 중국향 수출을 규제하고 있기 때문이다.

이는 에스앤에스텍과 같은 블랭크마스크 제조업체에게는 수혜로 작용한다. 최근 중국 고객사들은 에스앤에스텍의 로우엔드, 미들엔드급 DUV 블랭크마스크에 대한 구매주문을 11월 물량까지 완료했다.

또한 중국 내 수요 증가로 공급 제한이 예상되면서 특정 제품의 경우 올 하반기부터 가격을 50% 이상 인상하기로 한 것으로 알려졌다.

에스앤에스텍 관계자는 "고객사에 대한 구체적 사안을 언급할 수는 없지만 중국 내 로우엔드, 미들엔드 급의 블랭크마스크 수요가 지속적으로 오르고 있는 것은 사실"이라고 밝혔다.

한편 에스앤에스텍은 EUV 블랭크마스크에 대한 개발도 지속하고 있다. EUV 블랭크마스크는 개발 난이도가 매우 높은 분야로, 일본 호야 등이 시장을 독과점하고 있다.

작년 연결기준 매출액은 1503.20억으로 전년대비 21.7% 증가. 영업이익은 250.39억으로 56.37% 증가. 당기순이익은 258.55억으로 48.04% 증가.

블랭크 마스크 제조업체. 블랭크마스크는 반도체 및 LCD, OLED 노광 공정의 핵심재료인 포토마스크의 원재료임. 신기술사업금융업을 영위하는 에스앤에스인베스트먼트, 바이오 및 과학 기술서비스업을 영위하는 에스앤에스랩 등을 종속회사로 보유.
최대주주는 정수홍 외(21.68%), 주요주주는 삼성전자(8.00%), 국민연금공단(6.31%). 

2022년 연결기준 매출액은 1235.07억으로 전년대비 24.95% 증가. 영업이익은 160.313억으로 26.98% 증가. 당기순이익은 174.62억으로 51.86% 증가. 

2014년 6월5일 1875원에서 바닥을 찍은 후 크고 작은 등락을 보이는 가운데 점차 저점과 고점을 높혀오는 모습에서 작년 7월14일 63900원에서 최고가를 찍고 조정에 들어간 모습에서 올 11월14일 19010원에서 저점을 찍은 모습입니다. 이후 11월22일 23900원에서 고점을 찍고 밀리는 중으로, 이제부턴 밀릴때마다 물량 모아둘 기회로 볼 수 있겠습니다.

손절점은 21150원으로 보시고 최대한 저점을 노리시면 되겠습니다. 22000원 전후면 무난해 보이며 분할매수도 고려해 볼수 있겠습니다.목표가는 1차로  24200원 부근에서 한번 차익실현을 고려해 보시고 이후 눌릴시 지지되는 저점에서 재공략 하시면 되겠습니다. 2차는 26650원 이상을 기대 합니다.

감사합니다.