테스(095610), 특허취득(선택적 에미터를 포함하는 태...) : 테스(095610)

테스(095610), 특허취득(선택적 에미터를 포함하는 태...)

평민

조회 254 2011/11/15 13:53

등급별 점수 안내

등급	등급 비율	점수
왕	상위 2명	500,000점 이상
세자	상위 0%~1%까지	150,000점 이상
대감	상위 1%~5%까지	50,000점 이상
장군	상위 5%~15%까지	15,000점 이상
나리	상위 15%~30%까지	5,000점 이상
사또	상위 30%~55%	3,000점 이상
포졸	상위 55%~75%까지	1,000점 이상
중인	상위 75%~95%까지	500점 이상
상인	상위 95%~100%까지	100점 이상
평민	점수기준	50점 이상

등급제 자세히 보기

테스(095610)는 '선택적 에미터를 포함하는 태양 전지 제조 방법'에 관한 특허를 취득했다고 공시했다. 취득일자는 11-15이다.
2일 연속 오름세를 보이던 주가는 금일도 강세를 보이고 있다. 오후 1시50분 현재,전일보다 610원(+8.4%) 오른 7870원이다.

테스가 최근 1년간 취득했다고 공시한 특허는 아래와 같다.

공시일자	특허명칭	공시당시 등락율
금일공시	선택적 에미터를 포함하는 태양 전지 제조 방법	+8.4%
11.11.08	박막증착방법	-3.03%
11.11.01	가스분사장치	-1.97%
11.10.25	기판 처리 장치 및 기판 처리 방법	-1.31%
11.10.18	진공증착장치	-3.39%
11.10.11	기판 처리 장치	+4.1%
11.10.04	표면조도를 이용한 플라즈마 제어가 가능한 기판처리장치	-6.81%
11.09.30	공정 챔버의 슬릿 개폐 장치	+0.98%
11.09.20	마그네트론 스퍼터링 장치	+0.17%
11.09.09	태양 전지 제조 방법	+1.69%
11.08.24	플라즈마 처리장치	-3.36%
11.08.18	대면적 가스분사장치	-4.65%
11.08.09	가스분사장치	-14.64%
11.08.02	마그넷 셔터 및 이를 이용한 기판처리장치	-3.32%
11.07.26	마그네트론 스퍼터링 장치	+9.29%
11.07.19	기판처리장치	+0.91%
11.07.12	기판 처리장치	-3.57%
11.07.05	인라인 기판 처리시스템 및 공정챔버	-1.57%
11.06.23	기판처리장치	+2.51%
11.06.22	태양전지의 제조방법	+1.7%
11.06.07	플라즈마 발생용 전극 및 이를 포함하는 플라즈마 발생장치	-1.25%
11.05.31	기판처리장치	+0.29%
11.05.17	대면적 가스분사장치	+0.25%
11.05.11	반도체 소자 제조용 기판 처리방법	-1.03%
11.05.11	기판처리장치	-1.03%
11.04.25	로드락 챔버 및 이를 이용한 기판 처리 방법	-0.69%
11.04.18	기판처리장치	-3.95%
11.04.11	기판처리장치	-1.09%
11.02.28	가스 공급 장치	+1.47%
11.02.10	기판처리장치	+1.68%
11.01.21	플라즈마 발생장치	-3.02%
11.01.10	저온 화학기상증착에 의한 산화막 증착 방법	-0.25%
11.01.05	반도체 제조장치 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법	+0.5%
10.12.17	반도체 제조장치	+0.55%
10.12.13	마그네트론 스퍼터링 장치	-2.09%
10.12.10	반도체 제조 장비 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법	0.0%
10.12.08	반도체 제조용 챔버	+1.33%
10.11.23	반도체 제조용 샤워헤드 및 이 샤워헤드를 구비한 반도체 제조장치	-2.51%

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