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테스(095610), 특허권취득 (실리콘산화막의 선택적 식각 방법)

테스는 2018년 08월31일에 테스(095610)에 대하여『기타경영사항(특허권취득)(자율공시)』공시를 발표했다. 취득한 특허의 명칭은 "실리콘산화막의 선택적 식각 방법"이다. 이번 특허의 특허권은 주식회사 테스에게 있으며, 특허취득일은 2018년8월31일이고, 동사는 향후 해당특허를 "장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화"의 목적으로 활용할 계획이라고 밝혔다.

한편 이번 특허권과 관련된 참고할 내용은 다음과 같다.
1. 출원번호(국내) : 제10-2016-0041528
2. 상기 특허취득일자 및 확인일자는 특허 수수료 납부일자 기준임.
한편 이번 특허권의 주요 내용은 다음과 같다.
;상기 특허는 반도체 장비에 적용되는 기술임.
본 특허에 따르면실리콘산화막의 식각량은 더욱 증가시키고 실리콘질화막의 식각량은 감소시켜 식각 선택비 및 식각량을 현저히 증가시키고 공정의 단순화 및 공정 재현성에 우수한 장점이 있음.


최근 동사와 특허와 관련된 공시내용들을 참고할 필요가 있다. 또한 과거 공시가 발표된 날의 주가등락률 동향을 통하여 해당 특허들의 주가영향력도 같이 참고할 만하다.
( 공시발표일 / 종목명 / 관련공시 제목과 링크 / 해당일주가등락률)
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