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동진쎄미켐은 27일 대만에서 레지스트 박리액 관련 특허를 취득했다고 28일 공시했다. 다음은 공시원문. 1. 특허권자 : (주)동진쎄미켐 2. 특허의 신청 및 등록 - 출원일 : 1998년 12월 02일 - 취득일 : 2001년 02월 27일 3. 특허의 명칭 : 레지스트 박리액, 이를 이용한 레지스트 박리방법 레지스트 박리액 재생장치 및 레지스트 박리액 관리장치 4. 특허내용 : 유기아민 화합물, 프로톤성 글리콜 에테르, 비프로톤성 다극성용제 및 알킬피클리톤으로 이루어진 것을 특징으로 하는 본 발명에 따른 박리액은 식각공정에 의하여 변질된 레지스트막도 저온에서 단시간내에 용이하게 박리할 수 있으며, 하부의 금속배선을 거의 부식시키지 않으며, 가열로 인한 증발손실이 적어 교체주기를 최대화할 수 있으며 증류 및 성분보충에 의하여 용이하게 재생이 가능하다. 5. 투자액 (원) : 200,000,000 6. 예정사업 : 대만에 포토레지스트 및 박리액 공장 신설 7. 예정사업 규모 : 대만 반도체 및 LCD 재료시장 진출 8. 특허증빙서 접수일 : 2001년 03월 27일 9. 기타 : 해외특허(대만) 머니투데이
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